本文标题："购置专业高精度量测仪器-显微镜减少轮廓误差"

购置专业高精度量测仪器-显微镜减少轮廓误差
 
单次电极涂布补正分析
同一芯片一次涂布之电极轮廓经由软件补正数次后，期望电极轮廓
与芯片边界对位误差可以稳定于一范围内，由实验结果得知 x1 最大误
差为 0.0276 mm，y1 最大误差为 0.0137 mm，θ1 最大误差为 0.0540°，
虽然最大误差有较大偏差，但其它数据分布都接近理想值，持续补正
后数值皆趋近稳定，代表软件补正具有明显成效。

 两次电极涂布补正分析
两次涂布轮廓补正为最后研究成果，两次轮廓误差必需降低至 50
μm 内，此一实验结果得到两次涂布电极轮廓补正后 x 最大误差为
0.0093 mm，y 最大误差为 0.0111 mm，θ 最大误差为 0.0040°，角度换
算后对应之芯片边界位移误差为 0.0052 mm，由数据可得知两轮廓补
正后误差降低至设定的目标范围(50 μm)内，甚至更小，因此可以证明
软件补正两次涂布电极轮廓对位误差有明显的成效。
综合以上实验结果，两次电极涂布对位误差经由软件补正后，误差皆
降低至 50 μm 内，证明软件补正有明显成效。实验中几次发生误差值较大
偏差，必须注意的是，网版与涂布银胶品质的控管，如此才能确保软件进
行影像辨识时，能完整辨识出影像边界，以降低误差的产生

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