本文标题："CCD光电测量多功能显微镜和技术测量图像调整"
发布者：yiyi ------ 分类: 行业动态 ------
人浏览过-----时间：2016-5-12 1:52:49
CCD光电测量多功能显微镜和技术测量图像调整
测量图像的调整与处理
由于光学系统、电路和CCD本身造成的图像畸变，除了进行
硬件调整以外，必要时对软件也要进行校正处理。为提高成像质
量，还可从软件上采取过滤噪声、边缘识别和伪彩色处理等技术。
人工神经网络方法是较好的一种处理方法。
CCD光电测量设备和技术的发展
以往测量多用线阵CCD器件。近年来，随着光电测量技术
与CCD本身技术的发展，面阵CCD的测量精度等均得到了明显提高。
例如，目前像元中心距小于7 微米的面阵CCD器件已经比较常见，
价格也相对可以接受。利用面阵CCD直接完成二维图像的检测比用
线阵CCD加上机械运动的合成来完成更方便、快捷，可能达到的精
度会更高。
图像采集卡的存储容量和运算速度等性能也在逐步提高，
更能适合动态测量、大量数据处理和实时测量等要求。
微结构件几何尺寸测量示例
平面几何尺寸测量原理
微型零件在Z，Y平面的几何尺寸测量通常可以采用显微系
统一CCD一图像采集一微机处理的方法。
光学系统由反射照明、透射照明、显微成像系统、自动聚焦
和干涉部分等五部分组成。被测零件放在显微工作台上，经过显微
物镜和辅助物镜成像于CCD摄像机的靶面上，被放大的微细图形
经CCD光电转换后成为具有不同灰度的视频信号，再由图像采集
后将整幅图像信号送入微机内存，采用神经网络技术提纯图像后，
就在监视器屏幕上显示出被测零件的形状。
被测零件成形在摄像靶上后，被分离成具有不同灰度的像素
信息，构成待测图形的再显函数V(x，j，)
纵向几何尺寸测量原理
测量纵向微尺寸，采用光干涉原理。
光学系统类似于一个迈克尔逊干涉仪。来自反射照明系统
的光束入射在分光镜上，光束被分成测量光束和参考光束。反射测
量光束经测量显微物镜和被测件返回；透射参考光束经参考显微镜
组和参考反射镜反回。两光束所形成的干涉图形被摄像机接收进行
测量。当被测件存在高度差z时，原来形成的互相平行的等距条纹
产生错位，通过测量错位量，根据下式可求出纵向尺寸大小
以上测量的是条纹的小数部分，为确定条纹的整数部分，用0
级干涉条纹作为测量基点。
用此方法测量的微机械三维几何尺寸结果表明：z，Y方向
几何尺寸重复精度为土0．005μm；z方向几何尺寸在对比度K>0．8
时，测量精度为5 nm。
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