本文标题："透射电子显微镜分析岩石的位错的分布和密度"

透射电子显微镜分析岩石的位错的分布和密度

    有多种方法可以观察和研究位错的分布、位错的密度、
位错的方向以及确定位错的性质，主要包括:

    (1)表面法(即浸蚀法):通过化学浸蚀、电浸蚀或热浸蚀，将暴露于晶体颗粒表面
       的位错显示出来。不同类型的位错，其表现有所差异。
    (2)缀饰法:在透明晶体内以沉淀颗粒缀饰位错，以显示位错的位置。
    (3)透射电子显微镜分析:用它可以以极高放大倍率研究从0.1-0.4μm厚度样品
       中的位错，这是应用最广泛的一种技术。
    (4) X射线衍射法:利用X射线散射的局部差异来显示位错。
    (5)场离子显微术:它可以显示单个原子的位置。
在上述分析方法中，应用透射电子显微镜开展的位错研究最为有效和常用，
广泛用于观察位错及层错、双晶、晶界及空洞等其他晶体缺陷。

    透射电子显微镜技术主要是利用衬度技术获得位错等显微构造的图像，
它可以将各种位错的形态类型清楚地显示出来。
同时，还可以用衍射花样确定人射电子束及被观察样品部分的结晶学方位

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