穿透式焦散为一基本的焦散术之光学架设。把实验用的试片放置在雷射与空间滤波器之后，并把空间滤波器后聚焦之雷射光点打到试片的裂缝顶端，试片可以底片夹当作施力架，轻微施力，从屏幕上看试片的影像，可以得到裂缝顶端之阴影因施力变化的影像。裂缝顶端之阴影会随施力越大而越大，这就是因为裂缝尖端附近的变形区，其厚度及折射率变化有不连续的现象所引起。

 

　　在实际实验中，若光的入射角越小，则实验误差越小，屏幕上的影像越没有扭曲，则实验误差越小。因此整个光场必须很小心的架设才行。甚至试片的安装也得谨慎，先用施力架上端的夹头夹住试片，然后再以施力架下端的夹头夹住试片。

 

 

反射式焦散术的光学架设

 

　　为反射式焦散术的光学架设。反射式焦散术的技术比起穿透式焦散，可以看得出其信号较明显，并且多了其他能够测量应力变化的讯息。把试片放置在雷射、空间滤波器及两个透镜之后，并把空间滤波器后聚焦之雷射光用两个透镜形成平行光后聚焦，将聚焦之光束打到试片的裂缝顶端再反射至屏幕上，试片轻微施力，从屏幕上看试片的影像除了可以得到裂缝顶端因施力变化的阴影，在外围仍有一圈反射式焦散。裂缝顶端之阴影及反射式焦散会随施力越大而越大。另外在反射式焦散之外尚有因试片的前后反射面引起干涉的条纹，这些干涉的条纹也会随施力变化越大而变化率越大[15]。而这些干涉的条纹变化率越大的地方，也是应变率最大的地方，通常也就是裂缝尖端的部位。