本文标题："制作高数值孔径的微透镜-灰阶微透镜之扫描式电子显微镜"
发布者：yiyi ------ 分类: 行业动态 ------
人浏览过-----时间：2013-3-6 5:7:50
制作高数值孔径的微透镜-灰阶微透镜之扫描式电子显微镜
1.利用八阶微透镜的光罩与负光阻，可制作出凹透镜以及凹面
镜，因此可以利用凹面镜的功用以取代凸透镜和镜子组合的
功用，目前已做了光阻、矽基板与石英基板的蚀刻速率之量
测，以帮助未来蚀刻之条件。
2.利用较高的折射率的材料如铌酸锂(LiNbO3)等，就可制作出
数值孔径较高的微透镜。由于我们使用高折射率的材料的目
的是要改善数值孔径，由于绕射式平凸透镜的 NA 值最大值
可达到 n-1，石英基板的折射率 n 为 1.5，所以以石英为基板
之绕射式元件的数值孔径最大值可达到 0.5﹔而铌酸锂的折射率 n 为 2.1~2.3，
所以以铌酸锂为基板的微透镜其数值孔径最
大值可到 1.1~1.3，因此若我们将元件的材质改为铌酸锂的
话，我们将可制作高数值孔径的微透镜﹔
而且未来 CD-ROM或是 DVD-ROM 读写头所用的聚焦透镜之数值孔径也将会达
到 0.6~0.8，因此由石英基板所制成之平凸微透镜无法达到此
要求，所以我们将要把材料改为高折射率的材料才能制作高
数值孔径之微透镜。我们针对铌酸锂和石英基板的蚀刻情况
做㆒比较，利用活性离子蚀刻的方式来进行蚀刻[28] [29]，而
石英基板的蚀刻速率较铌酸锂的蚀刻速率快的许多
(在相同情况㆘，石英基板的蚀刻速率为每分钟 40nm﹔铌酸锂的蚀刻速率为每分钟 3nm)，
而且石英基板的表面粗糙度也较铌酸锂的
表面缓和，因此我们无法用活性离子蚀刻的方式来蚀刻铌酸
锂，所以在未来的工作中将会使用感应式耦合电浆蚀刻机(ICP)
对铌酸锂进行蚀刻，以改善蚀刻速率。
3.对于灰阶光罩之光阻与光密度之间的关系已经量测，这有利
我们着手于制作灰阶光罩的资料
灰阶微透镜之扫描式电子显微镜图形
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