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本文标题："含醇电解抛光液中有机酸加速抛光剂对铜溶解"

发布者：yiyi ------ 分类: 行业动态 ------ 人浏览过-----时间：2013-9-30 5:30:45

含醇电解抛光液中有机酸加速抛光剂对铜溶解

另外，我们还研究了含醇电解抛光液中有机酸加速抛光剂对铜溶解的影响。我们建立的有机酸双添加剂系统为醋酸、

柠檬酸、Citrazinic酸以及苯甲酸。在沟渠的底部，被证明酯化反应有效的生成一层抵抗电解抛光的黏膜且降低了局部区域的酸度

。因此在Trench外部，铜的溶解速率由电解液中的酸度主导。而在Trench底部，则由此生成的高黏度的电阻值主导。对于弱酸系统例如醋酸来说，

比较高浓度的添加剂量较能维持较低的酸度与致密的酯化层，所以能在Trench底部抑制铜的溶解。

所以能得知为何此含有醋酸加上醇类的电解液能在电解抛光后得到最高的铜平坦化效率。

论文第三部份，我们提出了一种方法：铜双重模式电镀，寄望能使得铜电镀与电解抛光能在一个电解槽完成。最重要的参数除了

为电解液的选用外，还包含电化学程式的最佳化。目前为止，我们发展了几种有效的电解液配方与电脉冲频率来促进铜双重电镀模式的效能。

目前发现有效的电解液中，包含了铜标准电镀液、抑制剂、平整剂以及电解抛光的必备磷酸。对于小线宽铜线，

已经有特定参数能达到电镀后的表面平整与高度填孔能力。对于大线宽铜线，则在良率60%的情形下达到阶段性高低差的减少

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