本文标题：" 金相试样为能得到平整光亮的磨面需要下一步的研磨步骤"
发布者：yiyi ------ 分类: 行业动态 ------
人浏览过-----时间：2014-3-23 5:53:7
金相试样为能得到平整光亮的磨面需要下一步的研磨步骤
在金相试样的制备过程中，由于试样尺寸过小、形状较特殊不易
手持或是要保护好试样的边缘部位，此时就需要进行镶嵌。经过镶嵌
后的样品会使磨抛更方便，试验结果更为准确。通常形状不规则的试
样，线材板材，表面处理及渗层镀层，表面脱碳的材料等都要先经过
镶嵌处理后再做磨抛。
金相试样在经过切割镶嵌后，为了能得到平整光亮的磨面，需进
行进一步的研磨工作。研磨过程中包括磨平即粗磨、磨光即细磨，抛
光3 个步骤。
1.粗磨一般材料都用砂轮机磨平。粗磨时要特别注意压力不要过
大，要不断用水冷却，以防内部组织发生变化。
2.试样在粗磨过后表面虽已恢复平整，但还遗留下较深而粗的磨
痕及表面加工造成的变形层，这时就需要从粗磨到细磨不同砂纸的磨
制，减轻磨痕，也为下一步的抛光做好前提准备。
3.最后一道工序即是抛光，其目的是除去试样磨面在细磨过程中
留下的磨痕，使其成为平整光滑的镜面。但此时前提是要在磨光时多
加注意，抛光的作用只是去除表面一层很薄的金属，因此抛光程度的
好坏也主要取决于前几道工序的质量。
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