欢迎来到上海光学仪器一厂

本文标题："测量元件的过程中所产生的误差原因-工具显微镜"

发布者：yiyi ------ 分类: 行业动态 ------ 人浏览过-----时间：2013-3-3 23:8:37

制作元件和测量元件的过程中所产生的误差原因-工具显微镜

在活性离子蚀刻方面绕射式光学元件外型的准确度会直接影响

元件的绕射效率的高低。

量测部分的结果相互比较有了 10%的误差，因此我们将探讨出在制作元

件和测量元件的过程中所产生的误差所在，其主要的误差有㆘列几

种：

(㆒)对準的误差--由于我们在制作八阶微透镜，需要经过 3 次对

準的动作，虽然设计了大小不同的对準记号，但因为曝光机上的物

镜放大倍率和焦深不足，使得在对準时无法同时看清楚光罩上和基

板上的图案﹔而且也受限于个人的技术问题及眼睛的灵敏度等问题，都会造成对準上的误差。

(㆓)曝光显影的误差--将光罩上的图案转到基板上时，曝光时间和显影时间均会影响元件的制作。

如果曝光及显影的条件过量或者不足，都会影响到光阻所形成的线宽和图案。

(㆔)蚀刻的误差--在蚀刻过程中，蚀刻腔体内气压的稳定度、气

体流量的稳定度、或是无线电频率之交流电功率的震盪起伏以及基

板与光阻的蚀刻速率比的稳定度等条件，都会影响到元件的品质

tags:技术,实验,金相显微镜,上海精密仪器,

测量元件的过程中所产生的误差原因-工具显微镜,金相显微镜现货供应