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本文标题："表面形貌量测在半导体及光学元件测量工具显微镜"

发布者：yiyi ------ 分类: 行业动态 ------ 人浏览过-----时间：2013-3-21 5:59:52

表面形貌量测在半导体及光学元件测量工具显微镜

表面形貌量测在半导体及光学元件制造上是一项重要的技术。光学干涉量测以非接触、全场性、

速度快与高精密等优势，大量应用于高科技产品表面形貌的量测。然而运用相位移技术时，

由于相移机构的移动，取像时间较长，受到环境振动或空气扰动的影响，容易产生较大误差，亦不适用于生产线上的检测。

瞬时（或同步）撷取不同相位移干涉条纹图像之量测系统。此系统利用偏光相位移干涉原理，透过一四影像合併镜组，

运用单一CCD同时撷取不同相移之干涉条纹，经由灰阶校正及数位对正各影像之位查，可由相位移法以及相位展开求得相位值，

转换得到待测物的表面形貌。此系统经以平面镜及晶圆进行实测，以验证及探讨此量测系统之準确性、误差与稳定性。

此系统之研发可以减除外在环境振动与量测时间过长所造成的影响，亟具实际运用的价值。

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